Электронный каталог библиотеки МИСИС

👓
eng|rus
Библиотека МИСИС
Режим работы:
Читальный зал Пн-Пт 10:00-18:00
Абонементы Пн-Чт 10:00-17:00,
Пт 10:00-16:00
Обед 12:00-13:00
В период каникул Вт, Чт 14:00-16:00
сайт: lib.misis.ru
e-mail: swt@ntb.misis.ru

Поиск :

  • Новые поступления
  • Расширенный поиск
  • Поиск одной строкой
  • Дискавери

  • Авторы
  • Издательства
  • Серии
  • Тезаурус (Рубрики)
  • Публичные полки

  • Учебная литература:
    • По дисциплинам
    • По специальностям
    • По специализациям
    • По кафедрам
    • Список дисциплин

  • Информация о фонде

  • · Журналы
  • · Электронная библиотека МИСИС
  • · Другие электронные учебники
  • · Все электронные ресурсы

  • Помощь

Личный кабинет :


Электронный каталог: Скворцов, И. М. - Физико-технологические основы процессов низкотемпературного, локального роста и легирования в про...

Скворцов, И. М. - Физико-технологические основы процессов низкотемпературного, локального роста и легирования в про...

Доступно
 1 из 1
Автореферат
Автор: Скворцов, И. М.
Физико-технологические основы процессов низкотемпературного, локального роста и легирования в про... : автореф. дис... д.т.н., спец. 05.27.06
Издательство: [МИСиС], 1989 г.
ISBN отсутствует

Заказать Заказать

На полку На полку


Автореферат

Скворцов, И. М.
Физико-технологические основы процессов низкотемпературного, локального роста и легирования в промышленных системах газофазной эпитаксии кремния : автореф. дис... д.т.н., спец. 05.27.06 / И. М. Скворцов . – М. : [МИСиС], 1989 . – 42 с. - Для служебного пользования.


Общий = Химия : неорганическая химия : периодическая система элементов : кремний
Общий = Кристаллография : кристаллы : рост
Общий = Металлургия : металлургические процессы : легирование

СП-22578 21:Фонд дис.ДСП МИСИС




© Все права защищены ООО "Компания Либэр" , 2009 - 2025  v.20.167