Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Глава 10. Получение структур методом ионной имплантации
Глава 10. Получение структур методом ионной имплантации

Книга (аналит. описание)
Автор:
Технология производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем: Глава 10. Получение структур методом ионной имплантации
б.г.
ISBN отсутствует
Автор:
Технология производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем: Глава 10. Получение структур методом ионной имплантации
б.г.
ISBN отсутствует
Книга (аналит. описание)
Глава 10. Получение структур методом ионной имплантации // Технология производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем : Учеб. пособие для вузов по спец. 'Полупроводники и диэлектрики' и 'Полупроводниковые приборы' / А. И. Курносов, В. В. Юдин . – 3-е изд., перераб. и доп . – М. : Высш. шк., 1986 . – с. 202-230 .
Глава 10. Получение структур методом ионной имплантации // Технология производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем : Учеб. пособие для вузов по спец. 'Полупроводники и диэлектрики' и 'Полупроводниковые приборы' / А. И. Курносов, В. В. Юдин . – 3-е изд., перераб. и доп . – М. : Высш. шк., 1986 . – с. 202-230 .