Электронный каталог библиотеки МИСИС

Книга (аналит. описание)

Механизм ионного травления. Коэффициент распыления материалов. Скорость ионного травления. Влияние химически активных остаточных газов на ионное травление материалов.Выбор режима откачки и откачных средств. Особенности переноса изображения с маски на рабочий материал при ионном травлении. Выбор и обработка маскирующих материалов при ионном травлении. Радиационные дефекты и изменение электрофизических параметров микроэлектронных структур при ионном травлении. Классификация систем ионного травления. Диодные ВЧ системы. Системы с автономными ионными источниками. Диодные системы на постоянном токе. Триодные системы. Контроль скорости удаления материала и толщины пленок в процессе ионного травления. // Ионное травление микроструктур / Б. С. Данилин, В. Ю. Киреев . – М. : Сов. радио, 1979 . – с. 20-94 . – ( ; 21) .