Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Никифоров, А. И. - Исследование процесса роста пленки Ge на поверхности Si(100) методом регистрирующей дифрактометри...
Никифоров, А. И. - Исследование процесса роста пленки Ge на поверхности Si(100) методом регистрирующей дифрактометри...
Статья
Автор: Никифоров, А. И.
Физика и техника полупроводников: Исследование процесса роста пленки Ge на поверхности Si(100) методом регистрирующей дифрактометри...
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Никифоров, А. И.
Физика и техника полупроводников: Исследование процесса роста пленки Ge на поверхности Si(100) методом регистрирующей дифрактометри...
б.г.
ISBN отсутствует
Статья
Никифоров, А. И.
Исследование процесса роста пленки Ge на поверхности Si(100) методом регистрирующей дифрактометрии / Атомная структура и неэлектронные свойства полупроводников / А. И. Никифоров, В. А. Черепанов, О. П. Пчеляков // Физика и техника полупроводников . – 2001 . – Т. 35, N 9 . – 1032-1035 .
Никифоров, А. И.
Исследование процесса роста пленки Ge на поверхности Si(100) методом регистрирующей дифрактометрии / Атомная структура и неэлектронные свойства полупроводников / А. И. Никифоров, В. А. Черепанов, О. П. Пчеляков // Физика и техника полупроводников . – 2001 . – Т. 35, N 9 . – 1032-1035 .