Электронный каталог библиотеки МИСИС

Статья

Вдовин, В. И.
Влияние знака напряжений несоответствия на формирование дислокационной структуры в эпитаксиальных слоях твердого раствора SiGe, выращенных на подложках Si и Ge / Поверхность, тонкие пленки / В. И. Вдовин, М. Г. Мильвидский, Т. Г. Югова // Кристаллография . – Основан в 1956 году . – 2005 . – Т. 50, N 5 . – с. 915-919 .