Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Косарев, А. М. - Технология получения слоев полупроводниковых соединений методом МОС-гидридной эпитаксии
Косарев, А. М. - Технология получения слоев полупроводниковых соединений методом МОС-гидридной эпитаксии
Книга (аналит. описание)
Автор: Косарев, А. М.
Оборудование, технологии и аналитические системы для материаловедения, микро- и наноэлектроники. Т. 2: Технология получения слоев полупроводниковых соединений методом МОС-гидридной эпитаксии
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Косарев, А. М.
Оборудование, технологии и аналитические системы для материаловедения, микро- и наноэлектроники. Т. 2: Технология получения слоев полупроводниковых соединений методом МОС-гидридной эпитаксии
б.г.
ISBN отсутствует
Книга (аналит. описание)
Косарев, А. М.
Технология получения слоев полупроводниковых соединений методом МОС-гидридной эпитаксии / А. М. Косарев, Л. В. Кожитов // Оборудование, технологии и аналитические системы для материаловедения, микро- и наноэлектроники. Т. 2 : материалы V Российско-японского семинара (18-19 июня 2007 г.) / ред. Л. В. Кожитов . – М. : Изд-во МИСиС, 2007 . – С. 681-700 .
Косарев, А. М.
Технология получения слоев полупроводниковых соединений методом МОС-гидридной эпитаксии / А. М. Косарев, Л. В. Кожитов // Оборудование, технологии и аналитические системы для материаловедения, микро- и наноэлектроники. Т. 2 : материалы V Российско-японского семинара (18-19 июня 2007 г.) / ред. Л. В. Кожитов . – М. : Изд-во МИСиС, 2007 . – С. 681-700 .