Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Ушаков, В. В. - Ионная имплантация пористого фосфида галлия / Аморфные, стеклообразные и пористые полупроводники
Ушаков, В. В. - Ионная имплантация пористого фосфида галлия / Аморфные, стеклообразные и пористые полупроводники
Статья
Автор: Ушаков, В. В.
Физика и техника полупроводников: Ионная имплантация пористого фосфида галлия / Аморфные, стеклообразные и пористые полупроводники
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Ушаков, В. В.
Физика и техника полупроводников: Ионная имплантация пористого фосфида галлия / Аморфные, стеклообразные и пористые полупроводники
б.г.
ISBN отсутствует
Статья
Ушаков, В. В.
Ионная имплантация пористого фосфида галлия / Аморфные, стеклообразные и пористые полупроводники / В. В. Ушаков, В. А. Дравин, Н. Н. Мельник, Т. В. Заварицкая, Н. Н. Лойко, В. А. Караванский, Е. А. Константинова, В. Ю. Тимошенко // Физика и техника полупроводников . – 1998 . – Т. 32, N 8 . – 990-994 .
Ушаков, В. В.
Ионная имплантация пористого фосфида галлия / Аморфные, стеклообразные и пористые полупроводники / В. В. Ушаков, В. А. Дравин, Н. Н. Мельник, Т. В. Заварицкая, Н. Н. Лойко, В. А. Караванский, Е. А. Константинова, В. Ю. Тимошенко // Физика и техника полупроводников . – 1998 . – Т. 32, N 8 . – 990-994 .