Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Чаплыгин, А. Н. - Влияние химико-механического нанополирования (ХМП) кристаллов Bi12SiO20 на фотоотклик
Чаплыгин, А. Н. - Влияние химико-механического нанополирования (ХМП) кристаллов Bi12SiO20 на фотоотклик
Статья
Автор: Чаплыгин, А. Н.
Нанотехника: Влияние химико-механического нанополирования (ХМП) кристаллов Bi12SiO20 на фотоотклик
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Чаплыгин, А. Н.
Нанотехника: Влияние химико-механического нанополирования (ХМП) кристаллов Bi12SiO20 на фотоотклик
б.г.
ISBN отсутствует
На полку
Статья
Чаплыгин, А. Н.
Влияние химико-механического нанополирования (ХМП) кристаллов Bi12SiO20 на фотоотклик / А. Н. Чаплыгин, А. С. Сизов // Нанотехника . – 2009 . – N 4 (20) . – С.:57-62 .
Чаплыгин, А. Н.
Влияние химико-механического нанополирования (ХМП) кристаллов Bi12SiO20 на фотоотклик / А. Н. Чаплыгин, А. С. Сизов // Нанотехника . – 2009 . – N 4 (20) . – С.:57-62 .
Привязано к:
Доступно
1 из 1