Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Пахнев, А. В. - Влияние примесей на фотоупругие свойства и их температурную зависимость в щелочногалоидных криста...
Пахнев, А. В. - Влияние примесей на фотоупругие свойства и их температурную зависимость в щелочногалоидных криста...
![](/vmsua5379ghkip/app/webroot/img/doctypes/7.gif)
Книга (аналит. описание)
Автор: Пахнев, А. В.
Вып.88: Дефекты в оптических монокристаллах: Влияние примесей на фотоупругие свойства и их температурную зависимость в щелочногалоидных криста...
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Пахнев, А. В.
Вып.88: Дефекты в оптических монокристаллах: Влияние примесей на фотоупругие свойства и их температурную зависимость в щелочногалоидных криста...
б.г.
ISBN отсутствует
Книга (аналит. описание)
Пахнев, А. В.
Влияние примесей на фотоупругие свойства и их температурную зависимость в щелочногалоидных кристаллах / А. В. Пахнев, М. П. Шаскольская // Труды Московского института стали и сплавов : науч. труды / МИСиС . – М. : Металлургия. - Вып.88: Дефекты в оптических монокристаллах : Сб.статей / МИСиС, А. А. Блистанов . – М. : Металлургия, 1976 . – 51-62 .
Измерены фотоупругие постоянные и их температурная зависимость в интервале температур 300-600 К для щелочногалоидных кристаллов KCl, RbI, LiF с рядом катионных двухвалентных примесей. Измерение фотоупругих постоянных проводилось компенсационным методом Сенармона при 540нм. Установлен эффект влияния примеси на величину фотоупругих постоянных и их температурную зависимость. Полученные результаты позволяют сделать вывод о возможности направленного изменения фотоупругого эффекта с помощью примеси и определения температурного интервала изменения состояния примеси поляризационно-оптическим методом.
Пахнев, А. В.
Влияние примесей на фотоупругие свойства и их температурную зависимость в щелочногалоидных кристаллах / А. В. Пахнев, М. П. Шаскольская // Труды Московского института стали и сплавов : науч. труды / МИСиС . – М. : Металлургия. - Вып.88: Дефекты в оптических монокристаллах : Сб.статей / МИСиС, А. А. Блистанов . – М. : Металлургия, 1976 . – 51-62 .
Измерены фотоупругие постоянные и их температурная зависимость в интервале температур 300-600 К для щелочногалоидных кристаллов KCl, RbI, LiF с рядом катионных двухвалентных примесей. Измерение фотоупругих постоянных проводилось компенсационным методом Сенармона при 540нм. Установлен эффект влияния примеси на величину фотоупругих постоянных и их температурную зависимость. Полученные результаты позволяют сделать вывод о возможности направленного изменения фотоупругого эффекта с помощью примеси и определения температурного интервала изменения состояния примеси поляризационно-оптическим методом.