Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Исследование и разработка хлоридного процесса получения диэлектрической изоляции и слоя поликрист...
Исследование и разработка хлоридного процесса получения диэлектрической изоляции и слоя поликрист...
Доступно
1 из 1
1 из 1
Отчет
Автор:
Исследование и разработка хлоридного процесса получения диэлектрической изоляции и слоя поликрист...
Издательство: [МИСиС], 1979 г.
ISBN отсутствует
Автор:
Исследование и разработка хлоридного процесса получения диэлектрической изоляции и слоя поликрист...
Издательство: [МИСиС], 1979 г.
ISBN отсутствует
Отчет
Исследование и разработка хлоридного процесса получения диэлектрической изоляции и слоя поликристаллического кремния в низкотемпературной плазме / В. В. Крапухин, Г. Д. Кузнецов . – М. : [МИСиС], 1979 . – 122 с. : ил + Библиогр.: с. 107-122. - Шифр работы 1450. ГР N 77021301. Инв. N Б759858. (Для служебного пользования).
Общий = Физика : электричество : диэлектрики
Общий = Материаловедение : полупроводники
Общий = Физика : плазма
СП-10823 27:Фонд отчетов ДСП МИСиС
Исследование и разработка хлоридного процесса получения диэлектрической изоляции и слоя поликристаллического кремния в низкотемпературной плазме / В. В. Крапухин, Г. Д. Кузнецов . – М. : [МИСиС], 1979 . – 122 с. : ил + Библиогр.: с. 107-122. - Шифр работы 1450. ГР N 77021301. Инв. N Б759858. (Для служебного пользования).
Общий = Физика : электричество : диэлектрики
Общий = Материаловедение : полупроводники
Общий = Физика : плазма
СП-10823 27:Фонд отчетов ДСП МИСиС