Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Качурин, Г. А. - Влияние дозы и режима отжигов на формирование центров люминесценции в SiO2, имплантированном иона...
Качурин, Г. А. - Влияние дозы и режима отжигов на формирование центров люминесценции в SiO2, имплантированном иона...
Статья
Автор: Качурин, Г. А.
Физика и техника полупроводников: Влияние дозы и режима отжигов на формирование центров люминесценции в SiO2, имплантированном иона...
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Качурин, Г. А.
Физика и техника полупроводников: Влияние дозы и режима отжигов на формирование центров люминесценции в SiO2, имплантированном иона...
б.г.
ISBN отсутствует
Статья
Качурин, Г. А.
Влияние дозы и режима отжигов на формирование центров люминесценции в SiO2, имплантированном ионами Si / Низкоразмерные системы / Г. А. Качурин, А. Ф. Лейер, К. С. Журавлев, И. Е. Тысченко, А. К. Гутаковский, В. А. Володин, В. Скорупа, Р. А. Янков // Физика и техника полупроводников . – 1998 . – Т. 32, N 11 . – 1371-1377 .
Качурин, Г. А.
Влияние дозы и режима отжигов на формирование центров люминесценции в SiO2, имплантированном ионами Si / Низкоразмерные системы / Г. А. Качурин, А. Ф. Лейер, К. С. Журавлев, И. Е. Тысченко, А. К. Гутаковский, В. А. Володин, В. Скорупа, Р. А. Янков // Физика и техника полупроводников . – 1998 . – Т. 32, N 11 . – 1371-1377 .