Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Гадияк, Г. В. - Диффузия бора и фосфора в кремнии при высокотемпературной ионной имплантации
Гадияк, Г. В. - Диффузия бора и фосфора в кремнии при высокотемпературной ионной имплантации
Статья
Автор: Гадияк, Г. В.
Физика и техника полупроводников: Диффузия бора и фосфора в кремнии при высокотемпературной ионной имплантации
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Гадияк, Г. В.
Физика и техника полупроводников: Диффузия бора и фосфора в кремнии при высокотемпературной ионной имплантации
б.г.
ISBN отсутствует
На полку
Статья
Гадияк, Г. В.
Диффузия бора и фосфора в кремнии при высокотемпературной ионной имплантации / Г. В. Гадияк // Физика и техника полупроводников . – 1997 . – Т. 31, N 4 . – 385-390 .
Гадияк, Г. В.
Диффузия бора и фосфора в кремнии при высокотемпературной ионной имплантации / Г. В. Гадияк // Физика и техника полупроводников . – 1997 . – Т. 31, N 4 . – 385-390 .
Привязано к:
Доступно
1 из 1
Выпуск
Физика и техника полупроводников Т. 31, N 4
1997 г.
ISBN отсутствует
Библиотека МИСиС : Научный
Физика и техника полупроводников Т. 31, N 4
1997 г.
ISBN отсутствует
Библиотека МИСиС : Научный