Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Глава 4. Некоторые вопросы теории диффузии в полупроводниках: Влияние комплексообразования на диф...
Глава 4. Некоторые вопросы теории диффузии в полупроводниках: Влияние комплексообразования на диф...
Книга (аналит. описание)
Автор:
Диффузия и точечные дефекты в полупроводниках: Глава 4. Некоторые вопросы теории диффузии в полупроводниках: Влияние комплексообразования на диф...
б.г.
ISBN отсутствует
Автор:
Диффузия и точечные дефекты в полупроводниках: Глава 4. Некоторые вопросы теории диффузии в полупроводниках: Влияние комплексообразования на диф...
б.г.
ISBN отсутствует
Книга (аналит. описание)
Глава 4. Некоторые вопросы теории диффузии в полупроводниках: Влияние комплексообразования на диффузию примесей в полупроводниках. Влияние внутренних электрических полей на диффузию. Кулоновское взаимодействие при вакансионном механизме диффузии в полупроводниках. Коэффициент диффузии и уровень химического потенциала в полупроводниках.Диссоциативный механизм диффузии в полупроводниках. Эффект увлечения ионов электронами и дырками. Соотношение Эйнштейна. Причины наблюдающихся отклонений. Об аномальной скорости диффузии некоторых примесей в германии и кремнии (Взаимосвязь диффузии с растворимостью) // Диффузия и точечные дефекты в полупроводниках / Б. И. Болтакс . – М. : Наука, 1972 . – с. 76-108 .
Глава 4. Некоторые вопросы теории диффузии в полупроводниках: Влияние комплексообразования на диффузию примесей в полупроводниках. Влияние внутренних электрических полей на диффузию. Кулоновское взаимодействие при вакансионном механизме диффузии в полупроводниках. Коэффициент диффузии и уровень химического потенциала в полупроводниках.Диссоциативный механизм диффузии в полупроводниках. Эффект увлечения ионов электронами и дырками. Соотношение Эйнштейна. Причины наблюдающихся отклонений. Об аномальной скорости диффузии некоторых примесей в германии и кремнии (Взаимосвязь диффузии с растворимостью) // Диффузия и точечные дефекты в полупроводниках / Б. И. Болтакс . – М. : Наука, 1972 . – с. 76-108 .