Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Наумова, О. В. - Электрофизические свойства структур Si:H/p-Si, полученных имплантацией водорода / Аморфные, стекл...
Наумова, О. В. - Электрофизические свойства структур Si:H/p-Si, полученных имплантацией водорода / Аморфные, стекл...
![](/vmsua5379ghkip/app/webroot/img/doctypes/6.gif)
Статья
Автор: Наумова, О. В.
Физика и техника полупроводников: Электрофизические свойства структур Si:H/p-Si, полученных имплантацией водорода / Аморфные, стекл...
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Наумова, О. В.
Физика и техника полупроводников: Электрофизические свойства структур Si:H/p-Si, полученных имплантацией водорода / Аморфные, стекл...
б.г.
ISBN отсутствует
Статья
Наумова, О. В.
Электрофизические свойства структур Si:H/p-Si, полученных имплантацией водорода / Аморфные, стеклообразные и пористые полупроводники / О. В. Наумова, И. В. Антонова, В. П. Попов, В. Ф. Стась // Физика и техника полупроводников . – Издается с января 1967 года . – 2003 . – Т. 37, N 1 . – с. 93-97 .
Наумова, О. В.
Электрофизические свойства структур Si:H/p-Si, полученных имплантацией водорода / Аморфные, стеклообразные и пористые полупроводники / О. В. Наумова, И. В. Антонова, В. П. Попов, В. Ф. Стась // Физика и техника полупроводников . – Издается с января 1967 года . – 2003 . – Т. 37, N 1 . – с. 93-97 .