Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Шапиро, В. И. - Исследование технологических процессов изготовления и свойств СВЧ туннельных диодов из антимонида...
Шапиро, В. И. - Исследование технологических процессов изготовления и свойств СВЧ туннельных диодов из антимонида...
Доступно
1 из 1
1 из 1
Диссертация
Автор: Шапиро, В. И.
Исследование технологических процессов изготовления и свойств СВЧ туннельных диодов из антимонида... : дис... к.т.н., спец. 05.298 - "Полупроводниковые приборы и их технология"
Издательство: [МИСиС], 1972 г.
ISBN отсутствует
Автор: Шапиро, В. И.
Исследование технологических процессов изготовления и свойств СВЧ туннельных диодов из антимонида... : дис... к.т.н., спец. 05.298 - "Полупроводниковые приборы и их технология"
Издательство: [МИСиС], 1972 г.
ISBN отсутствует
Диссертация
VIII-5 Ш-233д ДСП
Шапиро, В. И.
Исследование технологических процессов изготовления и свойств СВЧ туннельных диодов из антимонида галлия : дис... к.т.н., спец. 05.298 - "Полупроводниковые приборы и их технология" / В. И. Шапиро ; науч. рук. С. Г. Мадоян . – М. : [МИСиС], 1972 . – 160 с. : рис. - (Науч.-исслед. ин-т полупроводниковой электроники). Для служебного пользования .
СП-4568 21:Фонд дис.ДСП МИСиС
VIII-5 Ш-233д ДСП
Шапиро, В. И.
Исследование технологических процессов изготовления и свойств СВЧ туннельных диодов из антимонида галлия : дис... к.т.н., спец. 05.298 - "Полупроводниковые приборы и их технология" / В. И. Шапиро ; науч. рук. С. Г. Мадоян . – М. : [МИСиС], 1972 . – 160 с. : рис. - (Науч.-исслед. ин-т полупроводниковой электроники). Для служебного пользования .
СП-4568 21:Фонд дис.ДСП МИСиС