Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Ундалов, Ю. К. - Изучение влияния кислорода на интенсивность фотолюминисценции эрбия в пленках a-SiOx:H(Er), получ...
Ундалов, Ю. К. - Изучение влияния кислорода на интенсивность фотолюминисценции эрбия в пленках a-SiOx:H(Er), получ...

Статья
Автор: Ундалов, Ю. К.
Физика и техника полупроводников: Изучение влияния кислорода на интенсивность фотолюминисценции эрбия в пленках a-SiOx:H(Er), получ...
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Ундалов, Ю. К.
Физика и техника полупроводников: Изучение влияния кислорода на интенсивность фотолюминисценции эрбия в пленках a-SiOx:H(Er), получ...
б.г.
ISBN отсутствует
Статья
Ундалов, Ю. К.
Изучение влияния кислорода на интенсивность фотолюминисценции эрбия в пленках a-SiOx:H(Er), полученных магнетронным способом / Аморфные, стеклообразные и пористые полупроводники / Ю. К. Ундалов, Е. И. Теруков, О. Б. Гусев, В. Х. Кудоярова // Физика и техника полупроводников . – Издается с января 1967 года . – 2003 . – Т. 37, N 7 . – с. 853-859 .
Ундалов, Ю. К.
Изучение влияния кислорода на интенсивность фотолюминисценции эрбия в пленках a-SiOx:H(Er), полученных магнетронным способом / Аморфные, стеклообразные и пористые полупроводники / Ю. К. Ундалов, Е. И. Теруков, О. Б. Гусев, В. Х. Кудоярова // Физика и техника полупроводников . – Издается с января 1967 года . – 2003 . – Т. 37, N 7 . – с. 853-859 .