Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Косарев, А. М. - Оптимизация процесса МОС-гидридной эпитаксии слоев GaAs, Al Ga и In Ga As на основе математическо...
Косарев, А. М. - Оптимизация процесса МОС-гидридной эпитаксии слоев GaAs, Al Ga и In Ga As на основе математическо...
Доступно
1 из 1
1 из 1
Диссертация
Автор: Косарев, А. М.
Оптимизация процесса МОС-гидридной эпитаксии слоев GaAs, Al Ga и In Ga As на основе математическо... : дис... к.т.н., спец. 05.27.06 - "Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники"
Издательство: [МИСиС], 2004 г.
ISBN отсутствует
Автор: Косарев, А. М.
Оптимизация процесса МОС-гидридной эпитаксии слоев GaAs, Al Ga и In Ga As на основе математическо... : дис... к.т.н., спец. 05.27.06 - "Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники"
Издательство: [МИСиС], 2004 г.
ISBN отсутствует
Заказать 
На полку
Диссертация
К-71д
Косарев, А. М.
Оптимизация процесса МОС-гидридной эпитаксии слоев GaAs, Al Ga и In Ga As на основе математической модели : дис... к.т.н., спец. 05.27.06 - "Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники" / А. М. Косарев ; науч. рук. В. В. Крапухин . – М. : [МИСиС], 2004 . – 131 с. : ил. + Библиогр.: с. 124-131.
621.315.592:548.25(043.3)
658241 19:Фонд дис.МИСиС
К-71д
Косарев, А. М.
Оптимизация процесса МОС-гидридной эпитаксии слоев GaAs, Al Ga и In Ga As на основе математической модели : дис... к.т.н., спец. 05.27.06 - "Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники" / А. М. Косарев ; науч. рук. В. В. Крапухин . – М. : [МИСиС], 2004 . – 131 с. : ил. + Библиогр.: с. 124-131.
621.315.592:548.25(043.3)
658241 19:Фонд дис.МИСиС