Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Щербачев, К. Д. - Изменение структуры слоя Si в КНИ после имплантации ионов Ar+ / Атомная структура и методы структ...
Щербачев, К. Д. - Изменение структуры слоя Si в КНИ после имплантации ионов Ar+ / Атомная структура и методы структ...
Статья
Автор: Щербачев, К. Д.
Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники: Изменение структуры слоя Si в КНИ после имплантации ионов Ar+ / Атомная структура и методы структ...
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Щербачев, К. Д.
Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники: Изменение структуры слоя Si в КНИ после имплантации ионов Ar+ / Атомная структура и методы структ...
б.г.
ISBN отсутствует
На полку
Статья
Щербачев, К. Д.
Изменение структуры слоя Si в КНИ после имплантации ионов Ar+ / Атомная структура и методы структурных исследований / К. Д. Щербачев, В. Т. Бублик, А. В. Курипятник, В. Н. Мордкович, Д. М. Пажин // Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники . – 2004 . – N 4 . – с. 71-74 .
Щербачев, К. Д.
Изменение структуры слоя Si в КНИ после имплантации ионов Ar+ / Атомная структура и методы структурных исследований / К. Д. Щербачев, В. Т. Бублик, А. В. Курипятник, В. Н. Мордкович, Д. М. Пажин // Известия высших учебных заведений. Материалы электронной техники . – 2004 . – N 4 . – с. 71-74 .
Привязано к:
Нет экз.