Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Разработка физико-химических основ обработки поверхности полупроводниковых материалов и получение...
Разработка физико-химических основ обработки поверхности полупроводниковых материалов и получение...
Доступно
1 из 1
1 из 1
Книга
Автор:
Разработка физико-химических основ обработки поверхности полупроводниковых материалов и получение... : Окончательный отчет этапа
Издательство: [МИСиС], 1979 г.
ISBN отсутствует
Автор:
Разработка физико-химических основ обработки поверхности полупроводниковых материалов и получение... : Окончательный отчет этапа
Издательство: [МИСиС], 1979 г.
ISBN отсутствует
Заказать 
На полку
Книга
Разработка физико-химических основ обработки поверхности полупроводниковых материалов и получение эпитаксиальных структур с использованием ионных методов. Раздел 1. Исследование процесса плазмохимической обработки поверхности монокристаллических германия и кремния. Раздел 2. Исследование растворимости и поверхности и ЖИГ : Окончательный отчет этапа / В. В. Крапухин, С. А. Ершова . – М. : [МИСиС], 1979 . – 79 с. : ил. + Библиогр.: с. 77-79. - Шифр работы 30-79-5. ГР N 80002543. Инв. N Б813293. (Для служебного пользования).
СП-11628 27:Фонд отчетов ДСП МИСиС
Разработка физико-химических основ обработки поверхности полупроводниковых материалов и получение эпитаксиальных структур с использованием ионных методов. Раздел 1. Исследование процесса плазмохимической обработки поверхности монокристаллических германия и кремния. Раздел 2. Исследование растворимости и поверхности и ЖИГ : Окончательный отчет этапа / В. В. Крапухин, С. А. Ершова . – М. : [МИСиС], 1979 . – 79 с. : ил. + Библиогр.: с. 77-79. - Шифр работы 30-79-5. ГР N 80002543. Инв. N Б813293. (Для служебного пользования).
СП-11628 27:Фонд отчетов ДСП МИСиС