Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Вялых, Д. В. - Исследование микротопографии поверхностей SiO2 и Si межфазной границы Si/SiO2 в структурах SIMOX ...
Вялых, Д. В. - Исследование микротопографии поверхностей SiO2 и Si межфазной границы Si/SiO2 в структурах SIMOX ...
Статья
Автор: Вялых, Д. В.
Физика и техника полупроводников: Исследование микротопографии поверхностей SiO2 и Si межфазной границы Si/SiO2 в структурах SIMOX ...
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Вялых, Д. В.
Физика и техника полупроводников: Исследование микротопографии поверхностей SiO2 и Si межфазной границы Si/SiO2 в структурах SIMOX ...
б.г.
ISBN отсутствует
На полку
Статья
Вялых, Д. В.
Исследование микротопографии поверхностей SiO2 и Si межфазной границы Si/SiO2 в структурах SIMOX методом сканирующей туннельной микроскопии / Полупроводниковые структуры, границы раздела и поверхность / Д. В. Вялых, С. И. Федосеенко // Физика и техника полупроводников . – 1999 . – Т. 33, N 6 . – 708-711 .
Вялых, Д. В.
Исследование микротопографии поверхностей SiO2 и Si межфазной границы Si/SiO2 в структурах SIMOX методом сканирующей туннельной микроскопии / Полупроводниковые структуры, границы раздела и поверхность / Д. В. Вялых, С. И. Федосеенко // Физика и техника полупроводников . – 1999 . – Т. 33, N 6 . – 708-711 .
Привязано к:
Доступно
1 из 1
Выпуск
Физика и техника полупроводников Т. 33, N 6
1999 г.
ISBN отсутствует
Библиотека МИСиС : Научный
Физика и техника полупроводников Т. 33, N 6
1999 г.
ISBN отсутствует
Библиотека МИСиС : Научный