Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Дашевский, М. Я. - Исследование гетероструктур InSb/GaSb, GaSb/InSb
Дашевский, М. Я. - Исследование гетероструктур InSb/GaSb, GaSb/InSb
Книга (аналит. описание)
Автор: Дашевский, М. Я.
Вып.83: Твердые растворы элементарных полупроводников и полупроводниковых соединений: Исследование гетероструктур InSb/GaSb, GaSb/InSb
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Дашевский, М. Я.
Вып.83: Твердые растворы элементарных полупроводников и полупроводниковых соединений: Исследование гетероструктур InSb/GaSb, GaSb/InSb
б.г.
ISBN отсутствует
Книга (аналит. описание)
Дашевский, М. Я.
Исследование гетероструктур InSb/GaSb, GaSb/InSb / М. Я. Дашевский, В. М. Жданов, Л. В. Ковальчук, В. В. Суходолов // Труды Московского института стали и сплавов : науч. труды / МИСиС . – М. : Металлургия. - Вып.83: Твердые растворы элементарных полупроводников и полупроводниковых соединений : Сборник статей / МИСиС, С. С. Горелик, С. С. Горелик . – М. : Металлургия, 1974 . – 145-148 .
Приведены результаты исследования переходных слоев гетероструктур InSb(ш)/GaSb(ш), GaSb(ш)/InSb(ш),полученных методом жидкостной эпитаксии и влияния полярных направлений роста <ш> на совершенство структуры. Показано, что при выращивании гетероструктур GaSb(ш)/InSb(ш) полярность направлений <Ш> не оказывает существенного влияния на морфологию слоев. Однако при выращивании гетероструктур InSb(ш)/GaSb(ш) затруднен слоистый рост в направлении A/Ш/, что приводит к повышенной плотности дефектов. Легирование теллуром до концентрации 2*10 в 19 степени ат/см куб приводит к подавлению монокристаллического роста слоев InSb на подложках GaSb в направлении В/ш/.
Дашевский, М. Я.
Исследование гетероструктур InSb/GaSb, GaSb/InSb / М. Я. Дашевский, В. М. Жданов, Л. В. Ковальчук, В. В. Суходолов // Труды Московского института стали и сплавов : науч. труды / МИСиС . – М. : Металлургия. - Вып.83: Твердые растворы элементарных полупроводников и полупроводниковых соединений : Сборник статей / МИСиС, С. С. Горелик, С. С. Горелик . – М. : Металлургия, 1974 . – 145-148 .
Приведены результаты исследования переходных слоев гетероструктур InSb(ш)/GaSb(ш), GaSb(ш)/InSb(ш),полученных методом жидкостной эпитаксии и влияния полярных направлений роста <ш> на совершенство структуры. Показано, что при выращивании гетероструктур GaSb(ш)/InSb(ш) полярность направлений <Ш> не оказывает существенного влияния на морфологию слоев. Однако при выращивании гетероструктур InSb(ш)/GaSb(ш) затруднен слоистый рост в направлении A/Ш/, что приводит к повышенной плотности дефектов. Легирование теллуром до концентрации 2*10 в 19 степени ат/см куб приводит к подавлению монокристаллического роста слоев InSb на подложках GaSb в направлении В/ш/.