Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Столик, Д. - К вопросы линейного приближения хода потенциала в поверхностном слое пространственного заряда
Столик, Д. - К вопросы линейного приближения хода потенциала в поверхностном слое пространственного заряда
Книга (аналит. описание)
Автор: Столик, Д.
Вып.89: Поверхностные явления в полупроводниках: К вопросы линейного приближения хода потенциала в поверхностном слое пространственного заряда
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Столик, Д.
Вып.89: Поверхностные явления в полупроводниках: К вопросы линейного приближения хода потенциала в поверхностном слое пространственного заряда
б.г.
ISBN отсутствует
Книга (аналит. описание)
Столик, Д.
К вопросы линейного приближения хода потенциала в поверхностном слое пространственного заряда / Д. Столик, А. А. Галаев // Труды Московского института стали и сплавов : науч. труды / МИСиС . – М. : Металлургия. - Вып.89: Поверхностные явления в полупроводниках : Сб.статей / МИСиС, С. С. Горелик . – М. : Металлургия, 1976 . – 106-112 .
При решении многих задач часто используют линейное приближение хода потенциала в поверхностном слое пространственного заряда от поверхности до дебаевской глубины экранирования. В качестве верхнего предела интегрирования при определении концентрации носителей в слое пространственного заряда взята условная глубина экранирования, выбранная таким образом, что рекзультат интегрирования совпадает с численным решением интеграла с истинным ходом потенциала. Определена связь выбранной глубины экранирования с дебаевской глубиной.
Столик, Д.
К вопросы линейного приближения хода потенциала в поверхностном слое пространственного заряда / Д. Столик, А. А. Галаев // Труды Московского института стали и сплавов : науч. труды / МИСиС . – М. : Металлургия. - Вып.89: Поверхностные явления в полупроводниках : Сб.статей / МИСиС, С. С. Горелик . – М. : Металлургия, 1976 . – 106-112 .
При решении многих задач часто используют линейное приближение хода потенциала в поверхностном слое пространственного заряда от поверхности до дебаевской глубины экранирования. В качестве верхнего предела интегрирования при определении концентрации носителей в слое пространственного заряда взята условная глубина экранирования, выбранная таким образом, что рекзультат интегрирования совпадает с численным решением интеграла с истинным ходом потенциала. Определена связь выбранной глубины экранирования с дебаевской глубиной.